摘要 【东京电子推新型半导体冲洗机 可防芯片机闭遭反对】日媒称，日本大型半导体创筑筑立厂商东京电子发布，将于2021年1月发售冲洗机“CELLESTA SCD”，该产物带干燥效用，可普及最尖端半导体的制品率。通过补充行使“超临界流体”(根本没有外面张力)的干燥工序，防卫半导体上的微细机闭被反对。这款冲洗机将用于“微细化”和“众层化”的最尖端半导体创筑，“微细化”是缩小电门途宽，“众层化”是正在高度目标上层叠电途。（新华社）

　　日媒称，日本大型半导体创筑筑立厂商东京电子发布，将于2021年1月发售冲洗机“CELLESTA SCD”，该产物带干燥效用，可普及最尖端半导体的制品率。通过补充行使“超临界流体”(根本没有外面张力)的干燥工序，防卫半导体上的微细机闭被反对。这款冲洗机将用于“微细化”和“众层化”的最尖端半导体创筑，“微细化”是缩小电门途宽，“众层化”是正在高度目标上层叠电途。

　　据《日本经济音讯》网站12月18日报道，新产物正在东京电子的枚叶式冲洗机CELLESTA系列中装备了超临界干燥专用反响室，将用于创筑机闭一贯微细化、繁复化的逻辑半导体及一面电脑等行使的半导体存储器DRAM。

　　报道称，通过行使超临界流体，可能低落干燥时微细图案机闭被液体外面张力反对的危机。新产物正在干燥工序中以超临界流体替代酒精举动冲洗液。