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股市360]东京电子推新型半导体清洗机 可防芯片结

时间:2021-03-06  编辑:admin

  摘要 【东京电子推新型半导体冲洗机 可防芯片机闭遭反对】日媒称,日本大型半导体创筑筑立厂商东京电子发布,将于2021年1月发售冲洗机“CELLESTA SCD”,该产物带干燥效用,可普及最尖端半导体的制品率。通过补充行使“超临界流体”(根本没有外面张力)的干燥工序,防卫半导体上的微细机闭被反对。这款冲洗机将用于“微细化”和“众层化”的最尖端半导体创筑,“微细化”是缩小电门途宽,“众层化”是正在高度目标上层叠电途。(新华社)

  日媒称,日本大型半导体创筑筑立厂商东京电子发布,将于2021年1月发售冲洗机“CELLESTA SCD”,该产物带干燥效用,可普及最尖端半导体的制品率。通过补充行使“超临界流体”(根本没有外面张力)的干燥工序,防卫半导体上的微细机闭被反对。这款冲洗机将用于“微细化”和“众层化”的最尖端半导体创筑,“微细化”是缩小电门途宽,“众层化”是正在高度目标上层叠电途。

  据《日本经济音讯》网站12月18日报道,新产物正在东京电子的枚叶式冲洗机CELLESTA系列中装备了超临界干燥专用反响室,将用于创筑机闭一贯微细化、繁复化的逻辑半导体及一面电脑等行使的半导体存储器DRAM。

  报道称,通过行使超临界流体,可能低落干燥时微细图案机闭被液体外面张力反对的危机。新产物正在干燥工序中以超临界流体替代酒精举动冲洗液。

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